Личный кабинет
Подробное описание документа
Цветков Ю. Б.
Управление топологической точностью фотолитографии : учеб. пособие по курсу "Элионные технологии" / Цветков Ю. Б. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2005. - 174 с. : ил. - Библиогр.:
Рассмотрены основные этапы фотолитографии, а также проблемы управления топологической точностью фотолитографии. Изложены основы теории формирования микроизображений. Рассмотрены физико-химические процессы в позитивном фоторезисте при экспонировании и проявлении. Для студентов, изучающих курс "Элионные технологии".
