Подробное описание документа

Сагателян Г. Р., Макушина Н. В.
   Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра : учебное пособие / Сагателян Г. Р., Макушина Н. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2006. - 48 с. ил. - ISBN 5-7038-2926-7.

Издательство МГТУ им. Н.Э. Баумана

https://press.bmstu.ru/catalog/item/2588/

Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника».