Личный кабинет
Подробное описание документа
Юрчук С. Ю.
Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур: Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур с нанометровыми размерами : курс лекций / Юрчук С. Ю. ; Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС". - М. : Изд. Дом МИСиС, 2013. - 44 с. : ил. - Библиогр.:
Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».
