Личный кабинет
Подробное описание документа
Григорьянц А. Г.
Особенности формирования субмикронных пленок теллурида висмута методом импульсного лазерного осаждения / Григорьянц А. Г., Мисюров А. И., Шупенев А. Е. - DOI 10.18698/2308-6033-2012-6-234 // Инженерный журнал: наука и инновации. - 2012. - № 6. -
Использование наноразмерных термоэлектрических структур - перспективное направление развития конструкций термоэлектрических модулей. Тонкопленочные структуры теллурида висмута были получены в МГТУ им. Н.Э. Баумана методом импульсного лазерного осаждения. Проанализированы толщины и поверхности осажденных при различных режимах структур теллурида висмута. Приведена зависимость толщины осажденного слоя от температуры нагревателя и энергетических параметров лазерного излучения. Даны общие оценки стехиометрической однородности пленок в зависимости от режимов осаждения.
