Личный кабинет
Подробное описание документа
Сагателян Г. Р., Макушина Н. В.
Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра: учебное пособие / Сагателян Г. Р., Макушина Н. В. - Москва : МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2006. -
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
